タングステンスパッタリングターゲット
3. 太陽電池用ターゲット材料
（１）一般的に使用されるターゲット材料：太陽電池では、アルミニウム、銅、モリブデン、クロム、ITO、Taなどのターゲット材料が一般的に使用されています。
（２）用途：「窓層」、バリア層、電極、導電膜などに主に使用されます。
（３）性能要件：高い技術要件と幅広い用途。
W スパッタリングターゲット
4. 情報保存の対象となる材料
（１）一般的に使用されるターゲット材料：情報ストレージに一般的に使用されるターゲット材料には、コバルト、ニッケル、鉄合金、クロム、テルル、セレンなどがある。
（２）用途：このタイプのターゲットは、主に光ドライブや光ディスクの磁気ヘッド、中間層、下層に使用されます。
（３）性能要件：高い記憶密度と高い伝送速度に対する要求が高まっている。
5. ツール修正の対象となる材料
（１）一般的に使用されるターゲット材料：チタン／ジルコニウム／クロムアルミニウム合金および工具の改造に一般的に使用されるその他のターゲット材料。
（２）用途：主に表面強化の目的で使用されます。
（３）性能要件：高い性能要件と長い耐用年数。
WTi
6. 電子機器用ターゲット材料
（１）一般的に使用されるターゲット材料：電子機器に一般的に使用されるアルミニウム合金／シリサイドターゲット材料
（２）用途：薄膜抵抗器やコンデンサなどに用いられる。
（３）性能要件：小型、安定性、抵抗温度係数が小さい。
